Intel investe 1,5 milhões de dólares na produção de chips de 45 nanómetros

A Intel vai investir entre mil milhões e 1,5 mil milhões de dólares na remodelação de uma fábrica situada no Novo México com o intuito de implementar nas mesmas instalações uma fábrica de produção de componentes de 45 nanómetros.



Conhecida como Fab 11X – actualmente destinada ao fabrico de chips de computadores de 90nm em wafers de 300mm – esta será a quarta fábrica de nova geração da tecnologia de 45 nanómetros. Os primeiros exemplares estarão disponíveis a partir do segundo semestre do próximo ano.



A nova tecnologia inclui uma combinação inovadora de novos materiais que permitirão reduzir as fugas eléctricas, o que acaba por causar impacto positivo no desempenho dos transístores, diz a empresa em comunicado.



Inicialmente a produção dos materiais será efectuada em Oregon, nas instalações da fábrica D1D. Após a primeira fase, o fabrico será expandido a outras instalações, nomeadamente ao complexo do Novo México.



Paul Otellini, presidente e CEO da Intel, afirma que esta estratégia “representa uma das mais importantes revoluções em décadas de produção” e irá ajudar a empresa a “oferecer os melhores produtos possíveis” aos clientes.



No total, a empresa irá gastar entre 5,3 e 5,7 milhões de dólares na expansão da plataforma de 45 nm, valor onde se incluem os custos de renovação despendidos durante este ano na Fab 11X e em outras duas fábricas em construção, a Fab 32 e a Fab 38, situadas em Ariz e em Israel, respectivamente.

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